– Appareils photographiques des types utilisés pour la préparation des cli
chés ou cylindres d’impression qui sont des masqueurs conçus po
ur la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | Fabrication: à partir de matières de toute position, à l’exclusion des matières de la même position que le produit,dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit, etdans laquelle la valeur de toutes les
...[+++] matières non originaires utilisées ne doit pas excéder la valeur de toutes les matières originaires utilisées | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 30 % du prix départ usine du produit |– fototoestellen van de soort gebruikt voor het vervaardigen van clichés of van drukcilinders, zijnde patroongeneratoren van de soort gebruikt vo
or het vervaardigen van maskers of systeemmaskers "reticles" op substraten voorzien van een lichtgevoelige laag; delen en toebehoren daarvan | Vervaardiging: uit materialen van om het even welke post, met uitzondering van materialen van dezelfde post als het product,waarbij de waarde van alle gebruikte materialen niet meer bedraagt dan 40 % van de prijs af fabriek van het product, enwaarbij de waarde van alle gebruikte niet van oorsprong zijnde materialen niet meer bedraagt dan de waarde van de
...[+++] gebruikte en van oorsprong zijnde materialen | Vervaardiging waarbij de waarde van alle gebruikte materialen niet meer bedraagt dan 30 % van de prijs af fabriek van het product |
