(a) lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés tot ., mits ze worden gebruikt in gecontroleerde gesloten systemen overeenkomstig richtlijn van de Commissie 2001/59/EG en mits de concentratie van perfluoroctaansulfonaten die vrijkomen in het milieu en op de werkplek minder bedraagt dan 1µg per kg van de in het systeem gebruikte perfluoroctaansulfonaten.
(a) Fotoresistlacke und Antireflexbeschichtungen für fotolithografische Prozesse bis zum .*, sofern sie in Übereinstimmung mit der Richtlinie 2001/59/EG der Kommission in überwachten geschlossenen Systemen verwendet werden, bei denen PFOS in einer Konzentration von weniger als 1 µg pro kg der im System verwendeten PFOS-Menge in die Umwelt und die Arbeitsplatzumgebung abgegeben werden,