Vertaling van "Beam electrons " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE

electron beam [ electronic beam ]
faisceau électronique

beam of electrons | electron beam | electronic beam
faisceau d'électrons | faisceau électronique | rayons électroniques

E-beam | electron-beam
faisceau d'électrons

Convergent Beam Electron Diffraction | CBED [Abbr.]
diffraction électronique en faisceau convergent

electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]
masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]

electron-beam pattern generator | EPG | electron-beam maskmaker | electron-beam mask generator
électrocomposeur

electron beam welder [ electron beam welding machine | electronic bombardment welding machine ]
machine à souder par bombardement électronique [ machine à souder par faisceau d'électrons | machine à souder à faisceau d'électrons | machine de soudage par bombardement électronique ]

Electron beam sterilizer
stérilisateur par faisceau d’électrons

electron-beam valve | electron-beam tube
tube à faisceau électronique

electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography
lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters, which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.
émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d'une cible éloignée.

where Vis the peak electron energy in million electron volts and Q is the total accelerated charge in coulombs if the accelerator beam pulse duration is less than or equal to 1 µs, if the acceleration beam pulse duration is greater than 1µs, Q is the maximum accelerated charge in 1 µs [Q equals the integral of i with respect to t, over the lesser of 1 µs or the time duration of the beam pulse (Q =ƒidt), where i is beam current in amperes and t is the time in seconds]; or
où V est l’énergie électronique de pointe en millions d’électronvolts et Q est la charge totale accélérée en coulombs lorsque la durée d’impulsion du faisceau d’accélération est inférieure ou égale à 1 µs; lorsque la durée d’impulsion du faisceau d’accélération est supérieure à 1 µs, Q est la charge maximale accélérée en 1 µs, [Q est égale à l’intégrale de i par rapport à t, divisée par 1 µs ou la durée de l’impulsion du faisceau, selon la valeur la moins élevée (Q =ƒidt), i étant le courant du faisceau en ampères et t le temps en secondes];

9. Low Energy Electron Microscopes being electron-optical devices with an operating energy of 500 kilo-electron volts (keV) or less in which a beam of electrons, focused by means of electron lenses, is used to produce an enlarged image of a minute object on a fluorescent screen, photographic plate or any other detector-display system, including both the transmission and scanning types of devices.
9. Microscopes électroniques de faible énergie : dispositifs d’optique électronique à transmission ou à balayage, ayant une énergie de fonctionnement de 500 kilo-électronvolts (keV) ou moins, dans lesquels on utilise un faisceau d’électrons, focalisé par des lentilles électroniques, pour produire sur un écran fluorescent, une plaque photographique ou un autre système de visualisation, une image agrandie d’un objet de petite taille.

Flash x-ray generators or pulsed electron accelerators with peak energy of 500 keV or greater, as follows, except accelerators that are component parts of devices designed for purposes other than electron beam or x-ray radiation (electron microscopy, for example) and those designed for medical purposes:
Générateurs de radiographie éclair ou accélérateurs pulsés d’électrons ayant une énergie maximale égale ou supérieure à 500 keV comme suit, à l’exception des accélérateurs qui sont des composants de dispositifs destinés à d’autres fins que le rayonnement de faisceaux d’électrons ou de rayons X (pour la microscopie électronique par exemple) et ceux conçus à des fins médicales :

(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(4) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.10 from any other good of subheading 8486.10 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(4) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.10 de tout autre produit de la sous-position 8486.10 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes; water-jet cutting machines
Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma; machines à découper par jet d'eau

High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.
émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d’une cible éloignée.

c.High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters, which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.
c.émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d'une cible éloignée.