Traduction de «electron beam » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE

electron beam welder [ electron beam welding machine | electronic bombardment welding machine ]
machine à souder par bombardement électronique [ machine à souder par faisceau d'électrons | machine à souder à faisceau d'électrons | machine de soudage par bombardement électronique ]

Electron beam sterilizer
stérilisateur par faisceau d’électrons

guard electron beam welding machine | oversee electron beam heating and bonding machine units | oversee electron beam welding machine | tend electron beam welding machine
utiliser un appareil de soudage par faisceau d’électrons

electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography
lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection

electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]
masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]

electron-beam pattern generator | EPG | electron-beam maskmaker | electron-beam mask generator
électrocomposeur

electron-beam evaporation [ electron beam evaporation ]
évaporation par faisceau électronique [ évaporation par faisceau d'électrons ]

electron-beam valve | electron-beam tube
tube à faisceau électronique

Electronic insulin autoinjector
stylo à insuline électronique

Automatic-inflation electronic sphygmomanometer, non-portable
sphygmomanomètre électronique à gonflage automatique non portatif

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

Flash x-ray generators or pulsed electron accelerators with peak energy of 500 keV or greater, as follows, except accelerators that are component parts of devices designed for purposes other than electron beam or x-ray radiation (electron microscopy, for example) and those designed for medical purposes:
Générateurs de radiographie éclair ou accélérateurs pulsés d’électrons ayant une énergie maximale égale ou supérieure à 500 keV comme suit, à l’exception des accélérateurs qui sont des composants de dispositifs destinés à d’autres fins que le rayonnement de faisceaux d’électrons ou de rayons X (pour la microscopie électronique par exemple) et ceux conçus à des fins médicales :

(1) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam, electro-discharge or plasma arc processes of subheading 8486.30 from any other good of subheading 8486.30 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(1) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques, par électro-érosion ou par jet de plasma de la sous-position 8486.30 de tout autre produit de la sous-position 8486.30 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(16) A change to machine-tools for working any material by removal of material, by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.40 from any other good of subheading 8486.40 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(16) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.40 de tout autre produit de la sous-position 8486.40 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(4) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.10 from any other good of subheading 8486.10 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(4) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.10 de tout autre produit de la sous-position 8486.10 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes; water-jet cutting machines
Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma; machines à découper par jet d'eau

High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters, which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.
émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d'une cible éloignée.

c.High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters, which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.
c.émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d'une cible éloignée.

High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.
émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d’une cible éloignée.