After etching, the specimen is washed in water, immersed for about 30 seconds in 50 % dilute nitric acid, washed again in water and dried with compressed air.
Après l'attaque, l'échantillon est lavé à l'eau, trempé pendant 30 secondes environ dans de l'acide nitrique dilué à demi, rincé à nouveau à l'eau séché à l'air comprimé.