Vertaling van "Electron ion beam " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE

electron ion beam
faisceau électronique ionique

focused ion beam | Focussed Ion Beam | FIB [Abbr.]
faisceau d'ions focalisé

ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL | projection ion lithography
lithographie par projection d'ions | lithographie par projection ionique | lithographie ionique par projection | lithographie ionique de projection

Electronic-ion-chamber radiation dosimeter
dosimètre à chambre d’ionisation électronique

ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL [Abbr.]
lithographie par projection ionique

ion beam sputtering [ IBS | ion gun sputtering ]
pulvérisation au canon à ions

Application of ion beam analysis to art or archaeological objects (COST Action G1)
Application des méthodes d'analyse par faisceaux d'ions aux objets d'art et aux objets archéologiques (Action COST G1)

focused-ion beam
faisceau d'ions focalisé

ion-beam analysis | IBA
analyse par faisceau d'ions

focused ion beam | FIB
faisceau d'ions focalisé | faisceau d'ions focalisés | faisceau ionique focalisé

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

2. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:
2. équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes:

b. All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better;
b. toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 µcoulomb/mm2 ou meilleure;

b. All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm² or better;
b. toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 µcoulomb/mm³ ou meilleure;

The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
L'utilisation de faisceaux d'ions ou d'électrons ou de plasma, pour activer ou assister le dépôt du revêtement, est également une variante courante.

This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.