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Adjust projector
Adjust projector's focus
Adjust the focus of a projector
E-beam pattern generator
EPG
EPL
Electron beam heating and bonding machine elements
Electron beam heating and bonding machine units
Electron beam projection lithography
Electron beam sterilizer
Electron beam welder
Electron beam welding machine
Electron beam welding machine parts
Electron beam welding machine pieces
Electron projection lithography
Electron-beam mask generator
Electron-beam maskmaker
Electron-beam pattern generator
Electron-beam tube
Electron-beam valve
Electronic bombardment welding machine
Focus the light beam of a projector
Focusing an electron beam
Guard electron beam welding machine
Mask generator electron-beam machine
Oversee electron beam welding machine
Projection electron lithography
Tend electron beam welding machine

Vertaling van "Focusing an electron beam " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE
focusing an electron beam

concentration d'un faisceau électronique


adjust the focus of a projector | focus the light beam of a projector | adjust projector | adjust projector's focus

régler un projecteur


electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]

masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]


electron-beam pattern generator | EPG | electron-beam maskmaker | electron-beam mask generator

électrocomposeur


electron beam welder [ electron beam welding machine | electronic bombardment welding machine ]

machine à souder par bombardement électronique [ machine à souder par faisceau d'électrons | machine à souder à faisceau d'électrons | machine de soudage par bombardement électronique ]


Electron beam sterilizer

stérilisateur par faisceau d’électrons


electron beam heating and bonding machine elements | electron beam heating and bonding machine units | electron beam welding machine parts | electron beam welding machine pieces

pièces de machines de soudage par faisceau d’électrons


guard electron beam welding machine | oversee electron beam heating and bonding machine units | oversee electron beam welding machine | tend electron beam welding machine

utiliser un appareil de soudage par faisceau d’électrons


electron-beam valve | electron-beam tube

tube à faisceau électronique


electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography

lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
The Commission will also soon adopt the defence research work-programme for 2018 and ask the European Defence Agency to open the new calls for defence research proposals for this year. These calls will focus on electronic design technologies for defence applications and a European high-power laser effector.

La Commission adoptera bientôt le programme de travail 2018 pour la recherche de défense et demandera à l'Agence européenne de défense de publier les appels à propositions de cette année, ciblés sur les technologies de conception électronique des applications de défense et sur une arme à faisceau laser européenne à haute énergie.


Flash x-ray generators or pulsed electron accelerators with peak energy of 500 keV or greater, as follows, except accelerators that are component parts of devices designed for purposes other than electron beam or x-ray radiation (electron microscopy, for example) and those designed for medical purposes:

Générateurs de radiographie éclair ou accélérateurs pulsés d’électrons ayant une énergie maximale égale ou supérieure à 500 keV comme suit, à l’exception des accélérateurs qui sont des composants de dispositifs destinés à d’autres fins que le rayonnement de faisceaux d’électrons ou de rayons X (pour la microscopie électronique par exemple) et ceux conçus à des fins médicales :


(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


(1) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam, electro-discharge or plasma arc processes of subheading 8486.30 from any other good of subheading 8486.30 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(1) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques, par électro-érosion ou par jet de plasma de la sous-position 8486.30 de tout autre produit de la sous-position 8486.30 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


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(16) A change to machine-tools for working any material by removal of material, by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.40 from any other good of subheading 8486.40 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(16) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.40 de tout autre produit de la sous-position 8486.40 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


(4) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.10 from any other good of subheading 8486.10 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(4) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.10 de tout autre produit de la sous-position 8486.10 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


Machine tools for working any material by removal of material, by laser or other light or photon beam, ultrasonic, electrodischarge, electrochemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes; water-jet cutting machines

Machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par laser ou autre faisceau de lumière ou de photons, par ultrasons, par électro-érosion, par procédés électrochimiques, par faisceaux d'électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma; machines à découper par jet d'eau


In line with the objectives of the regulatory framework for electronic communications networks and services and with the principles of proportionality and subsidiarity, and for the purposes of legal certainty and efficiency for European businesses and national regulatory authorities alike, Directive 2002/58/EC (Directive on privacy and electronic communications) focuses on public electronic communications networks and services, and does not apply to closed user groups and corporate networks.

Conformément aux objectifs du cadre réglementaire pour les réseaux et services de communications électroniques et aux principes de proportionnalité et de subsidiarité, et dans un souci de sécurité juridique et d’efficacité pour les entreprises européennes comme pour les autorités réglementaires nationales, la directive 2002/58/CE (directive «vie privée et communications électroniques») porte sur les réseaux et services de communications électroniques publics et ne s’applique pas à des groupes fermés d’utilisateurs ou à des réseaux d’entreprises.


c.High pulsed power or high average power radio frequency beam transmitters, which produce fields sufficiently intense to disable electronic circuitry at a distant target.

c.émetteurs de faisceau de micro-ondes de puissance émise en impulsions élevée ou de puissance moyenne élevée produisant des champs suffisamment intenses pour rendre inutilisables les circuits électroniques d'une cible éloignée.


Inertial confinement: inertial confinement fusion is achieved by focusing very powerful laser beams (or beams of accelerated particles) on a tiny glass pellet containing a mixture of deuterium and tritium (hydrogen isotopes).

Confinement inertiel: la fusion par confinement inertiel consiste à faire converger des faisceaux laser très puissants (ou des faisceaux de particules accélérées) vers une minuscule pastille de verre contenant un mélange de deutérium et de tritium (isotopes de l'hydrogène).


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