It is therefore appropriate to introduce a specific concentration limit (SCL) of ≥ 0,03 % for the powder form and a generic concentration limit (GCL) of ≥ 0,3 % for the massive form.
Il convient donc d'établir une limite de concentration spécifique à ≥ 0,03 % pour le plomb en poudre et une limite de concentration générique à ≥ 0,3 %, pour le plomb massif.