Traduction de «Lithography » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE

EUV lithography | extreme-ultra-violet lithography
lithographie EUV

chromolithography | color lithography | colour lithography
chromolithographie

tint lithography [ tinted lithograph | tinted lithography | tint lithography ]
lithographie sur fond teinté

chromolithography [ colour lithography | color lithography | process offset ]
chromolithographie

ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL [Abbr.]
lithographie par projection ionique

extreme ultraviolet lithography | extreme UV lithography | EUV lithography | soft X-ray lithography
lithographie par ultraviolets extrêmes | lithographie aux ultraviolets extrêmes | lithographie ultraviolet extrême | lithographie UV extrême | lithographie EUV | lithographie par rayons X mous

electron-beam lithography [ EBL | e-beam lithography | electronic lithography ]
lithographie par faisceau électronique [ lithographie par faisceau d'électrons | électromasquage | masquage électronique | masquage par faisceau d'électrons ]

ion beam projection lithography | ion projection lithography | IPL | projection ion lithography
lithographie par projection d'ions | lithographie par projection ionique | lithographie ionique par projection | lithographie ionique de projection

electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography
lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection

CT technician | master printer/lithography | lithographer | plate worker
lithographe

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

in photo-lithography processes for semiconductors or in etching processes for compound semiconductors.
dans les procédés photolithographiques pour la fabrication de semi-conducteurs ou dans les procédés de gravure de semi-conducteurs composés.

Now, I don't know if this particular Rothmans is with rotogravure or lithography, but it looks pretty good in lithography.
Je ne sais pas si cette pochette Rothmans est imprimée par rotogravure ou lithographie, mais c'est de bonne qualité.

18. Lead as activator in the fluorescent powder (1 % lead by weight or less) of discharge lamps when used as sun tanning lamps containing phosphors such as BSP (BaSi2O5:Pb) as well as when used as speciality lamps for diazo-printing reprography, lithography, insect traps, photochemical and curing processes containing phosphors such as SMS ((Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb).
18. Le plomb comme activateur dans la poudre fluorescente (maximum 1 % de plomb en poids) des lampes à décharge utilisées comme lampes de bronzage contenant des luminophores tels que BaSi2O5:Pb (BSP) ou utilisées comme lampes spéciales pour la reprographie par procédé diazoïque, la lithographie, les pièges à insectes, les procédés photochimiques et de durcissement, contenant des luminophores tels que (Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb (SMS).

Lead as activator in the fluorescent powder (1 % lead by weight or less) of discharge lamps when used as sun tanning lamps containing phosphors such as BSP (BaSiO:Pb) as well as when used as speciality lamps for diazo-printing reprography, lithography, insect traps, photochemical and curing processes containing phosphors such as SMS ((Sr,Ba)MgSiO:Pb).
Le plomb comme activateur dans la poudre fluorescente (maximum 1 % de plomb en poids) des lampes à décharge utilisées comme lampes de bronzage contenant des luminophores tels que BaSiO:Pb (BSP) ou utilisées comme lampes spéciales pour la reprographie par procédé diazoïque, la lithographie, les pièges à insectes, les procédés photochimiques et de durcissement, contenant des luminophores tels que (Sr,Ba)MgSiO:Pb (SMS).

Lead as activator in the fluorescent powder (1 % lead by weight or less) of discharge lamps when used as sun tanning lamps containing phosphors such as BSP (BaSi2O5:Pb) as well as when used as speciality lamps for diazo-printing reprography, lithography, insect traps, photochemical and curing processes containing phosphors such as SMS ((Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb).
Le plomb comme activateur dans la poudre fluorescente (maximum 1 % de plomb en poids) des lampes à décharge utilisées comme lampes de bronzage contenant des luminophores tels que BaSi2O5:Pb (BSP) ou utilisées comme lampes spéciales pour la reprographie par procédé diazoïque, la lithographie, les pièges à insectes, les procédés photochimiques et de durcissement, contenant des luminophores tels que (Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb (SMS).

Lithography is one of the most important steps in the fabrication of integrated circuits.
La lithographie constitue l'une des étapes les plus importantes de la fabrication des circuits intégrés.

Research will focus on: a variety of advanced techniques for nano-scale manufacture (lithography or microscopy based techniques); breakthrough technologies, methodologies or instruments exploiting the self-assembling properties of matter and developing nano-scale machines.
La recherche sera centrée sur: une variété de techniques avancées pour la fabrication à l'échelle nanométrique (techniques faisant appel à la lithographie ou à la microscopie); des technologies et des méthodes hautement innovantes et les instruments associés exploitant les propriétés d'auto-assemblage de la matière et permettant le développement de machines à l'échelle nanométrique.

The European Commission decided to raise no objections on a grant of DEM 120 million (€ 60 million) for a German five year co-operative research project on extreme ultraviolet lithography (EUV).
La Commission a décidé de ne pas s'opposer à l'octroi d'une subvention de 120 millions de DEM (soit 60 millions d'euros) en faveur d'un projet allemand de recherche conjointe d'une durée de cinq ans portant sur la lithographie extrême ultraviolet (EUV).

The purpose of the aid is to promote the German participation to a joint Eureka project aiming at the development of EUV lithography technologies in Europe, that could strengthen the position of the European semiconductor industry suppliers through the development of know-how and intellectual property.
Cette aide a pour objet d'encourager la participation de l'Allemagne à un projet Eureka commun visant à développer la lithographie EUV en Europe, qui pourrait renforcer la position des fournisseurs européens sur le marché des semi-conducteurs en leur permettant d'acquérir un savoir-faire et des droits de propriété intellectuelle.

Commission approves German research project on Extreme Ultraviolet Lithography
La Commission autorise un projet de recherche allemand sur la lithographie extrême ultraviolet