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Apparatus based on the use of rays
EUV lithography
European X-ray Free-Electron Laser
European XFEL
Extreme UV lithography
Extreme ultraviolet lithography
Laser
Nuclear-explosion-pumped X-ray laser
Nuclear-pumped X-ray laser
Soft X rays
Soft X-ray camera
Soft X-ray laser
Soft X-ray lithography
Soft X-ray radiation
Soft X-rays
Soft rays
X-laser
X-ray laser

Vertaling van "Soft X-ray laser " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE




soft X-rays | soft X-ray radiation

rayons X mous | rayonnement X mou


nuclear-pumped X-ray laser [ nuclear-explosion-pumped X-ray laser ]

laser à rayons X pompé par explosion nucléaire [ laser à rayons X à pompage nucléaire ]


X-ray laser | X-laser

laser à rayons X | laser à rayon X | laser RX | laser X


extreme ultraviolet lithography | extreme UV lithography | EUV lithography | soft X-ray lithography

lithographie par ultraviolets extrêmes | lithographie aux ultraviolets extrêmes | lithographie ultraviolet extrême | lithographie UV extrême | lithographie EUV | lithographie par rayons X mous


apparatus based on the use of rays [ laser | Laser(STW) ]

appareil à radiations [ appareil à rayons | laser ]


European X-ray Free-Electron Laser | European XFEL

laser européen à électrons libres dans le domaine des rayons X (1) | laser européen à électrons libres XFEL (2) | laser européen XFEL (3) | installation européenne de rayonnement X cohérent (4)




IN-CONTEXT TRANSLATIONS
4 Lead in glass frit of X-ray tubes and image intensifiers and lead in glass frit binder for assembly of gas lasers and for vacuum tubes that convert electromagnetic radiation into electrons

4 Le plomb dans la fritte de verre des tubes à rayons X et des intensificateurs d'images et le plomb dans un liant de fritte de verre pour l'assemblage de lasers à gaz et pour les tubes à vide qui convertissent les rayonnements électromagnétiques en électrons


There are also workplace hazardous materials information systems, which provide information on corrosive materials, for example, and protection against radiation from chemicals and clinical and consumer products, such as X-rays, laser beams and sun lamps.

Il y a aussi les systèmes d'information sur les matières dangereuses utilisées au travail, comme la communication de l'information sur les matières corrosives et la protection contre les rayonnements des produits chimiques, cliniques et de consommation, comme les rayons X, les rayons laser et les lampes solaires.


I then worked for AT&T Bell Laboratories in New Jersey for 21 years, with a three-year leave of absence to Sandia National Laboratories in Albuquerque, New Mexico, where I worked on X-ray laser devices.

J'ai travaillé ensuite pour AT&T Bell Laboratories au New Jersey pendant 21 ans, avec un congé d'absence de trois ans passé aux Sandia National Laboratories à Albuquerque, au Nouveau-Mexique, où j'ai travaillé sur les appareils de radiographie au laser.


Soft low-energy X-rays actually are more absorbed than the higher-energy cosmic rays you receive whilst flying and are thus more dangerous and not less dangerous to the skin and soft tissues.

Les rayons X à faible énergie sont en fait plus absorbés que les rayons cosmiques à plus haute énergie que vous recevez en vol, ils sont donc plus dangereux et non pas moins dangereux pour la peau et les tissus mous.


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The bill also deals with protection against the radiation coming from clinical or consumer products, such as X-rays or laser beams.

Il est question aussi de la protection contre les rayonnements de produits cliniques ou de consommation, comme les rayons X ou les rayons lasers.


This position is all the more appalling given that optical radiation is known to fall under the category of electromagnetic radiation, which mainly comprises direct light, infrared and ultraviolet rays, and laser rays.

Cette position est d’autant plus affligeante que les rayonnements optiques sont connus pour faire partie de la catégorie des rayonnements électromagnétiques, qui comprend essentiellement les rayonnements directs, infrarouges, ultraviolets et laser.


Research will focus on: computational models , advanced production technologies, including high quality optical coatings from soft x-rays to IR and including image-guided and computer-assisted systems for neurosurgery and radiotherapy, wearable sensors for patient monitoring and man-machine interface ; development of innovative materials; development of new in-vitro tests to replace animal experiments .

La recherche sera centrée sur: les modèles informatiques , les technologies de production avancées, y compris les enrobages optiques de qualité élevée, des rayons X doux à l'infrarouge, des systèmes de guidage par l'image et assistés par ordinateur pour la neurochirurgie et la radiothérapie, les capteurs portables pour le contrôle du patient et l'interface homme-machine ; la mise au point de matériaux innovants; le développement de nouvelles expérimentations in vitro pour remplacer l'expérimentation animale .


Research will focus on: computational models, advanced production technologies, including high quality optical coatings from soft x-rays to IR and including image‑guided and computer‑assisted systems for neurosurgery and radiotherapy, wearable sensors for patient monitoring and man-machine interface; development of innovative materials.

La recherche sera centrée sur: les modèles informatiques, les technologies de production avancées, y compris les enrobages optiques de qualité élevée, des rayons X doux à l'infrarouge, des systèmes de guidage par l'image et assistés par ordinateur pour la neurochirurgie et la radiothérapie, les capteurs portables pour le contrôle du patient et l'interface homme-machine; la mise au point de matériaux innovants dotés de caractéristiques améliorées.


With the constant diminution in the semiconductor structure size, it is well established that within 10-11 years, the wave length of the light required in the lithography process will go past the ultra-violet spectrum into the Extreme-Ultra-Violet (EUV) or soft X-ray zone.

Étant donné que la taille des semi-conducteurs ne cesse de diminuer, il est largement admis que dans 10 à 11 ans, la longueur d'onde de la lumière qui sera nécessaire à la lithographie ira au-delà du spectre ultraviolet, atteignant l'extrême ultraviolet (EUV) ou la zone des rayons X mous.


optical equipment for the observation or adjustment of laser equipment on machinery must be such that no health risk is created by the laser rays.

les équipements optiques pour l'observation ou le réglage d'équipement laser sur une machine doivent être tels qu'aucun risque pour la santé ne soit créé par les rayons laser.




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'Soft X-ray laser' ->

Date index: 2023-05-28
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