Vertaling van "photoresistance " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE

photoresistance
photoresistance

negative-working photoresist [ negative-action photoresist | negative photoresist ]
résine négative

dry film photoresist | dry-film photoresist | dry film resist | dry film | photosensitive dry film | solid photosensitive resin
film photosensible sec | film sec | résine solide photosensible | épargne photosensible | réserve photosensible solide

stripping | photoresist stripping | photoresist strip | resist stripping | resist removal | strip
décapage | décapage de la résine | décapage de résine | décollage

photocell sensitivity | photoresistive-cell sensitivity | photoresistor sensitivity
sensibilité de cellule photorésistante

light-sensitive resin | light-sensitive resist | optical resist | photoresist | PR [Abbr.]
laque photosensible | résine photosensible

photoresist material
pellicule photorésistante

photoresist
photorésine [ résine photosensible ]

photoconductive cell [ photoresistive cell | photoresistor | photoconducting cell ]
cellule photoconductrice [ cellule photoconductive | cellule photorésistante | photorésistance | cellule photorésistive ]

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

(a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes; and
a) les résines photosensibles ou revêtements antireflets pour les procédés photolithographiques;

photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes;
résines photosensibles ou revêtements antireflet pour les procédés photolithographiques;

photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes.
résines photosensibles ou revêtements antireflet pour les procédés photolithographiques.

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,
(a) résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques,

- photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,
- résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques

With regard to the derogations contained in the proposal, I agree that the use of PFOS and related substances should continue to be permitted in photoresists and photographic materials, when plating with hexavalent chromium and other metals, and in hydraulic fluids, as the risks connected with these uses are acceptable since there are no equivalent alternatives and it is not certain that the toxicological profiles of the alternatives are any better.
S’agissant des dérogations contenues dans la proposition, je suis favorable à ce que l’utilisation des SPFO et des substances liées aux SPFO reste autorisée pour les résines photosensibles et les produits photographiques, pour le chromage au chrome hexavalent et autres métaux ainsi que pour les fluides hydrauliques. En effet, les risques associés sont acceptables, il n’existe pas de solution de substitution et il n’est pas certain que les profils toxicologiques des autres solutions soient meilleurs.

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ., provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC andwhere the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.
(a) résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques jusqu'au.*, sous réserve qu'elles soient utilisées dans des systèmes fermés contrôlés conformément à la directive 2001/59/CE de la Commissionoù la concentration de SPFO rejetés dans l’environnement et dans le milieu de travail est inférieure à 1µg par kg des SPFO utilisés dans le système.

– marking-out instruments which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | | |
– Instruments de traçage utilisés comme masqueurs conçus pour la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | | |

– cameras of a kind used for preparing printing plates or cylinders which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | Manufacture: from materials of any heading, except that of the product,in which the value of all the materials used does not exceed 40 % of the ex-works price of the product, andin which the value of all the non-originating materials used does not exceed the value of all the originating materials used | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 30 % of the ex-works price of the product |
– Appareils photographiques des types utilisés pour la préparation des clichés ou cylindres d’impression qui sont des masqueurs conçus pour la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | Fabrication: à partir de matières de toute position, à l’exclusion des matières de la même position que le produit,dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit, etdans laquelle la valeur de toutes les matières non originaires utilisées ne doit pas excéder la valeur de toutes les matières originaires utilisées | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 30 % du prix départ usine du produit |

Lithography concerns that part of chip production in which ultrafine electronic elements are created through the exposure of photoresistant materials to light.
La lithographie constitue la partie de la production de puces électroniques au cours de laquelle des éléments électroniques ultrafins sont créés par l'exposition à la lumière de matériaux photorésistants.