Traduction de «physical vapour deposition coated » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE

physical vapour deposition coated die [ PVD coated die ]
coin revêtu par dépôt physique en phase vapeur [ coin revêtu par PVD ]

physical vapor deposition | PVD | physical vapour deposition | physical gas phase deposition
dépôt physique en phase vapeur | dépôt physique en phase gazeuse | dépôt en phase vapeur

physical vapour deposition [ PVD | physical vapor deposition ]
dépôt physique en phase vapeur

electron beam physical vapour deposition | EB-PVD [Abbr.]
dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons

thermal-evaporation physical vapour deposition | TE-PVD [Abbr.]
dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique

thermal evaporation-physical vapour deposition
dêpôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment;
équipement de production pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD);

b. Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporise the coating material.
b. Le dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) est un procédé de revêtement par recouvrement exécuté dans un vide, à une pression inférieure à 0,1 Pa, par lequel une source d'énergie thermique est utilisée pour la vaporisation du matériau de revêtement.

This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.

c". Stored programme controlled" electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following:
c. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons (EB-PVD), comportant des systèmes d'alimentation de plus de 80 kW et présentant l'une des caractéristiques suivantes:

a. Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
a. Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) est un procédé de revêtement par recouvrement ou revêtement par modification de surface par lequel un métal, un alliage, un matériau "composite", un diélectrique ou une céramique est déposé sur un substrat chauffé.