Traduction de «x-ray lithography » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE

X-ray lithography | XRL | X-lithography
lithographie par rayons X | lithographie aux rayons X | lithographie à rayons X | lithographie X

X-ray lithography
lithographie aux rayons X

extreme ultraviolet lithography | extreme UV lithography | EUV lithography | soft X-ray lithography
lithographie par ultraviolets extrêmes | lithographie aux ultraviolets extrêmes | lithographie ultraviolet extrême | lithographie UV extrême | lithographie EUV | lithographie par rayons X mous

X-ray lithography
lithographie par rayons X

soft-X-ray lithography
lithographie à rayons X mous

X-ray lithography for microcircuits
lithographie des microcircuits aux rayons X

X-rays | X rays | x-rays | x rays | roentgen rays | x radiation | x-radiation
rayons X | rayons de Röntgen | rayons Röntgen | rayonnement X

analytical X-ray equipment [ X-ray analysis equipment | X-ray equipment ]
appareils d'analyse aux rayons X [ appareils d'analyse à rayons X ]

X-ray blip [ X-ray emission | X-ray burst ]
émission de rayons X

free-free emission (1) | Bremstrahlung (2) | braking radiation (3) | white radiation (4) | continuous x-ray spectrum (5)
rayonnement de freinage | Bremsstrahlung

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

With the constant diminution in the semiconductor structure size, it is well established that within 10-11 years, the wave length of the light required in the lithography process will go past the ultra-violet spectrum into the Extreme-Ultra-Violet (EUV) or soft X-ray zone.
Étant donné que la taille des semi-conducteurs ne cesse de diminuer, il est largement admis que dans 10 à 11 ans, la longueur d'onde de la lumière qui sera nécessaire à la lithographie ira au-delà du spectre ultraviolet, atteignant l'extrême ultraviolet (EUV) ou la zone des rayons X mous.

It also competes with other technologies (like X-ray and electron beam lithography), that have also been intensely studied in the USA.
Elle est également en concurrence avec d'autres techniques (telles que le rayon X et la lithographie par faisceau électronique), qui ont également fait l'objet de nombreuses études aux États-Unis.