Vertaling van "Electron-beam photo-resist exposure " (Engels → Nederlands) :

TERMINOLOGIE

electron-beam photo-resist exposure
belichting van fotolak met een elektronenstraal

electron beam d.c.resistance
bundelweerstand

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

b. All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better;
b. alle «resists» ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm2 of beter;

b. All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm² or better;
b. alle "resists" ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm² of beter;