Traduction de «MoS » (Anglais → Néerlandais) :

TERMINOLOGIE

MOS digital element | MOS switch | MOS switching transistor | switching MOST
MOS-schakeltransistor

dynamic MOS logic circuit | MOS dynamic logic circuit
MOS dynamische logische schakeling

p-channel MOS technology | P-MOS | PMOS-technology | positive-channel MOS technology
PMOS-technologie

99-Mo
molybdeen-99

90-Mo
molybdeen-90

Mo-1 deficiency
leukocytadhesiedeficiëntie type I

motion capturing | Mo-cap | motion capture
MoCap | motion capture

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

Let mo and m denote the minimum and maximum sample sizes respectively (mo = 3 and m = 32) and let n denote the current sample number.
Hierbij staan mo en m voor de minimale en maximale steekproefomvang (mo = 3 en m = 32) en staat n voor het gegeven aantal monsters.

Support for the service dimension of the MoS will make the concept more attractive for the market.
Ondersteuning van de dienstverlenende dimensie van snelwegen op zee zal het concept aantrekkelijker te maken voor de markt.

port interconnections, (further) development of multimodal platforms and their interconnections, MoS (including icebreaking capacity)
havenverbindingen, (verdere) ontwikkeling van multimodale platforms en hun interconnecties, maritieme snelwegen (inclusies ijsbreekcapaciteit)

66. An appropriate MOS is typically 100 but an MOS higher or lower than this may be appropriate depending on, among other things, the nature of the critical toxicological effect.
66. Een passende veiligheidsmarge is normaliter 100, maar een grotere of kleinere marge kan passend zijn, afhankelijk van onder andere de aard van het kritiek toxicologisch effect.

65. The competent authorities or the Commission shall, where possible, compare the results obtained with those obtained from previous risk assessments for an identical or similar adverse effect and decide on an appropriate margin of safety (MOS) when making an authorisation decision.
65. De bevoegde autoriteit of de Commissie vergelijkt, waar mogelijk, de verkregen resultaten met de resultaten van voorgaande risicobeoordelingen voor een identiek of gelijksoortig schadelijk effect en neemt bij het besluit over toelating een passende veiligheidsmarge in acht.

The product under review is certain electronic integrated circuits known as Dynamic Random Access Memories (DRAMs) manufactured using variations of metal oxide-semiconductors (MOS) process technology, including complementary MOS types (CMOS), of all types, densities, variations, access speed, configuration, package or frame, etc. originating in the Republic of Korea (‘the product concerned’).
Het onderzoek heeft betrekking op de micro-elektronische schakelingen, DRAM's genaamd, vervaardigd in varianten van de metaaloxidehalfgeleider(MOS)-technologie, zoals complementaire MOS-types (CMOS), van alle soorten, dichtheden en varianten, ongeacht toegangssnelheid, configuratie, behuizing, frame enz., uit de Republiek Korea.

The product under consideration and the like product are the same as that covered by the original investigation, i.e. certain electronic microcircuits known as dynamic random access memories (DRAMs), of all types, densities and variations, whether assembled, in processed wafer or chips (dies), manufactured using variations of metal oxide-semiconductors (MOS) process technology, including complementary MOS types (CMOS), of all densities (including future densities), irrespective of access speed, configuration, package or frame etc., originating in the Republic of Korea.
De herbeoordeling heeft betrekking op hetzelfde product als het oorspronkelijke onderzoek, namelijk micro-elektronische schakelingen, zogeheten DRAM's (Dynamic Random Access Memories), van alle soorten, dichtheden en varianten, al dan niet geassembleerd of in de vorm van bewerkte „wafers” of chips (dies), vervaardigd in varianten van de metaaloxidehalfgeleider-(MOS)-technologie, zoals complementaire MOS-types (CMOS), van alle dichtheden (ook toekomstige), ongeacht toegangssnelheid, configuratie, behuizing, frame, enz., uit de Republiek Korea.

The UNECE database on Transboundary EIA (www.mos.gov.pl/enimpas) is incomplete: there are entries listing national institutions (Points of Contact for Notification, and Focal Points for the Implementation of the UNECE Convention), but little detail on any projects subject to the Convention.
De databank van UNECE betreffende grensoverschrijdende m.e.r (www.mos.gov.pl/enimpas) is onvolledig. Deze databank bevat weliswaar lijsten van nationale instellingen (contactpunten voor respectievelijk kennisgeving en de uitvoering van het Verdrag van Espoo), maar slechts weinig specifieke gegevens over projecten die onder het werkingsgebied van het verdrag vallen.

An appropriate MOS is typically 100 but an MOS higher or lower than this may be appropriate depending on, among other things, the nature of the critical toxicological effect.
Een passende veiligheidsmarge is normaliter 100, maar een grotere of kleinere marge kan passend zijn, afhankelijk van onder andere de aard van het kritiek toxicologisch effect.