Traduction de «photolithography » (Anglais → Néerlandais) :

TERMINOLOGIE

photolithography | photo-offset
fotolithografie | lichtsteendruk

circuit design imprinting onto wafers | imprinting of wafers with circuit design | imprint circuit design onto wafers | use photolithography
schakelontwerpen op wafers etsen

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

RAC proposed to exempt from the restriction photographic coatings applied to films, papers or printing plates, implantable medical devices and substances or mixtures used in semiconductor and photolithography processes, considering the relatively low environmental impact and long substitution timeframes.
Het RAC stelde voor fotografische coatings voor films, papier of drukplaten, implanteerbare medische hulpmiddelen en stoffen en mengsels die in procedés voor halfgeleiders en fotolithografie worden gebruikt van de beperking vrij te stellen gezien de relatief geringe impact ervan op het milieu en de lange vervangingstermijnen.

photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes;
lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procedés,

photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes.
lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procedés.

a. Photolithography: Studies estimate that the substitution process of PFOS in photolithography would take a minimum of 3-4 years.
a. fotolithografie: volgens studies zal de vervanging van PFOS in fotolithografie minimaal 3 à 4 jaar kosten.

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,
(a) lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés,

As far as other exceptions such as photolithography processes and anti-reflective coating and industrial treatments for photographic film are concerned, the quantities in question are very small.
Wat betreft overige uitzonderingen zoals fotolithografische processen en antireflecterende coatings en industriële behandeling van fotografische films, gaat het om zeer kleine hoeveelheden.

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ., provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC andwhere the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.
(a) lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés tot ., mits ze worden gebruikt in gecontroleerde gesloten systemen overeenkomstig richtlijn van de Commissie 2001/59/EG en mits de concentratie van perfluoroctaansulfonaten die vrijkomen in het milieu en op de werkplek minder bedraagt dan 1µg per kg van de in het systeem gebruikte perfluoroctaansulfonaten.

- photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,
- lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés,