Traduction de «utilise software design patterns » (Anglais → Néerlandais) :

TERMINOLOGIE

utilise software design patterns | use programming design patterns | use software design patterns
programmeerontwerppatronen gebruiken | programmeerpatronen opstellen | patronen voor het ontwerpen van software gebruiken | softwareontwerppatronen gebruiken

pattern-cutting software utilisation | utilise pattern-cutting softwares | use pattern-cutting softwares | utilize pattern-cutting softwares
software voor het snijden van patronen gebruiken

software UI design patterns
ontwerppatronen voor software | ontwerppatronen voor software-UI's | gebruikersinterfaces opzetten | ontwerppatronen voor softwaregebruikersinterfaces

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

A 'lithographic processing simulator' is a "software" package used in the design phase to define the sequence of lithographic, etching and deposition steps for translating masking patterns into specific topographical patterns in conductors, dielectrics or semiconductor material.
Een 'lithografische processimulator' is een "programmatuur"-pakket dat in de ontwerpfase wordt gebruikt voor het bepalen van de opeenvolgende lithografische, ets- en bekledingstrappen voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.

3D003 does not control "software" specially designed for schematic entry, logic simulation, placing and routing, layout verification or pattern generation tape.
In 3D003 wordt bedoeld "programmatuur", speciaal ontworpen voor tape ten behoeve van schematische invoer, logische simulatie, plaatsen en routebepaling, controleren van patronen of genereren van patronen.

A "lithographic processing simulator" is a "software" package used in the design phase to define the sequence of lithographic, etching and deposition steps for translating masking patterns into specific topographical patterns in conductors, dielectrics or semiconductor material.
Een "lithografische processimulator" is een "programmatuur"-pakket dat in de ontwerpfase wordt gebruikt voor het bepalen van de opeenvolgende lithografische, ets- en bekledingstrappen voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.