Vertaling van "Dépôt chimique en phase vapeur " (Frans → Nederlands) :

TERMINOLOGIE

déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique
chemisch opdampen | chemische dampafzetting | opdampen | CVD [Abbr.]

réacteur de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
reactor voor het opbrengen door middel van plasma-CVD

dépôt de composés organométalliques en phase vapeur | dépôt de vapeur chimique de composés organométalliques | MOCVD [Abbr.]
chemisch opdampen van organo-metaalverbindingen | metaalorganische CVD | MOCVD [Abbr.]

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.
de hoeveelheden van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie op de markt heeft gebracht, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders.

aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.
fluorkoolwaterstoffen die rechtstreeks door een producent of invoerder worden geleverd aan een onderneming die deze gebruikt voor het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders.

10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.
10. Gefluoreerde broeikasgassen die op de markt worden gebracht voor het etsen van halfgeleidermateriaal en het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders moeten worden geëtiketteerd met een vermelding dat de inhoud van de houder uitsluitend voor dit doel mag worden gebruikt.

les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.
de hoeveelheid van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie heeft ingevoerd en geeft daarbij de belangrijkste categorieën toepassingen waarvoor de stof wordt gebruikt aan, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor vernietiging, gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, herverpakking, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders.

aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
fluorkoolwaterstoffen die rechtstreeks door een producent of invoerder worden geleverd aan een onderneming die deze gebruikt voor het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders;

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
de hoeveelheid van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie heeft ingevoerd en geeft daarbij de belangrijkste categorieën toepassingen waarvoor de stof wordt gebruikt aan, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor vernietiging, gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, herverpakking, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
de hoeveelheden van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie op de markt heeft gebracht, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

Le paragraphe 2B005 ne vise pas les équipements pour le dépôt chimique en phase vapeur, pour le dépôt par arc cathodique, pour le dépôt par pulvérisation cathodique, pour le placage ionique ou pour l'implantation ionique, spécialement conçus pour outils de coupe ou d'usinage.
2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, «ion-plating», of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines.

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.
CVD omvat de volgende procédés: «out-of-pack»-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procédés.

2. équipements pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique d'éléments ou de composés sur des substrats filamenteux chauffés pour la fabrication de fibres de carbure de silicium;
2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide;