Traduction de «Procédés de gravure laser » (Français → Néerlandais) :

TERMINOLOGIE

procédés de gravure au laser | procédés de gravure laser
lasergraveermethoden | lasergraveermethodes

procédés de marquage au laser | procédés de marquage laser
lasermarkeringsprocessen

procédé de gravure profonde
diepe-gravuretechniek

Gravure laser
Lasergravering

gravure laser
lasergravure

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

Selon la partie requérante dans l'affaire n° 6069, on ne voit pas clairement, en particulier pour les infirmiers, (1) si un traitement au laser de classe 4 ou supérieure ou à la lumière pulsée intense peut encore toujours entrer dans le champ d'application de la définition générale de médecine esthétique non chirurgicale, (2) si un traitement au laser de njvus ou de taches pigmentées et d'autres affections cutanées entre dans le champ d'application des dispositions attaquées et (3) si les infirmiers sont punissables lorsqu'ils procèdent à des traitements esthétiques au laser.
Volgens de verzoekende partij in de zaak nr. 6069 is het, inzonderheid voor verpleegkundigen, niet duidelijk (1) of een laserbehandeling met een klasse 4 of hoger of fel pulserend licht nog steeds onder de algemene definitie van niet-heelkundige esthetische geneeskunde kan vallen, (2) of een laserbehandeling van moeder- of pigmentvlekken en van andere huidaandoeningen onder het toepassingsgebied van de bestreden bepalingen valt en (3) of verpleegkundigen strafbaar zijn wanneer zij esthetische laserbehandelingen uitvoeren.

Les systèmes, le matériel et les composants utilisés dans les usines d'enrichissement par laser comprennent : a) des dispositifs d'alimentation en vapeur d'uranium métal (en vue d'une photo-ionisation sélective) ou des dispositifs d'alimentation en vapeur d'un composé de l'uranium (en vue d'une photodissociation ou d'une activation chimique); b) des dispositifs pour recueillir l'uranium métal enrichi (produit) et appauvri (résidus) dans les procédés de la première catégorie et des dispositifs pour recueillir les composés dissociés ou activés (produit) et les matières non modifiées (résidus) dans les procédés de la seconde catégorie; c) des systèmes laser de procédé pour exciter sélectivement la forme uranium 235; d) des équipements pour la préparation de l'alimentation et pour la conversion du produit.
De systemen, uitrusting en onderdelen voor laserverrijkingsinstallaties omvatten : (a) voedingsinrichtingen voor uraan-metaaldamp (voor selectieve foto-ionisatie) of voedingsinrichtingen voor de damp van een uraanverbinding (voor fotodissociatie of chemische activering); (b) inrichtingen voor het verzamelen van verrijkt en verarmd uraanmetaal als « product » en « afval » in de eerste categorie, en inrichtingen voor het verzamelen van gedissocieerde of verbindingen die aan de reactie hebben deelgenomen als « product » en niet-aangetaste verbindingen als « afval » in de tweede categorie; (c) proceslasersystemen voor het selectief exciteren van het uraan-235 en (d) apparatuur voor de behandeling van voedingsmateriaal en de omzetting van product.

Le marquage des munitions est réalisé via gravure par laser sur celles-ci et reprend une série d'indications, en plus de celles qui figurent déjà sur leur emballage.
Bij het markeren van munitie wordt gebruik gemaakt van lasergravure waarbij een aantal gegevens worden aangebracht op de wapens bovenop de gegevens die al op de verpakking staan.

Le système laser employé dans le procédé SILMO comprend généralement un laser à CO ou un laser à excimère et une cellule optique à multipassages munie de miroirs tournants aux deux extrémités.
Lasersystemen voor het MLIS-proces bestaan doorgaans uit een CO- of excimere-laser en een multi-pass optische-cel met aan beide uiteinden draaiende spiegels.

Ces procédés sont notamment connus sous les dénominations courantes suivantes : première catégorie ­ séparation des isotopes par laser sur vapeur atomique (SILVA ou AVLIS); seconde catégorie ­ séparation des isotopes par irradiation au laser de molécules (SILMO ou MLIS) et réaction chimique par activation laser isotopiquement sélective (CRISLA).
De gebruikte nomenclatuur voor dergelijke processen is : eerste categorie ­ Atomic Vapor Laser Isotope Separation (AVLIS of SILVA); tweede categorie ­ Molecular Laser Isotope Separation (MLIS of MOLIS) en Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation (CRISLA).

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
de hoeveelheid van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie heeft ingevoerd en geeft daarbij de belangrijkste categorieën toepassingen waarvoor de stof wordt gebruikt aan, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor vernietiging, gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, herverpakking, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
de hoeveelheden van elke stof van de lijst in bijlage I en, indien van toepassing, bijlage II, die hij in de Unie op de markt heeft gebracht, met afzonderlijke specificatie van de hoeveelheden die op de markt zijn gebracht voor gebruik als grondstof, rechtstreekse uitvoer, vervaardiging van doseerinhalatoren voor de toediening van geneesmiddelen, gebruik in militaire apparatuur en gebruik bij het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector van de productie van halfgeleiders;

aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
fluorkoolwaterstoffen die rechtstreeks door een producent of invoerder worden geleverd aan een onderneming die deze gebruikt voor het etsen van halfgeleidermateriaal of het reinigen van kamers voor chemische dampafzetting in de sector fabricage van halfgeleiders;

déchets provenant du traitement chimique de surface et du revêtement des métaux et autres matériaux (par exemple, procédés de galvanisation, de revêtement de zinc, de décapage, de gravure, de phosphatation, de dégraissage alcalin et d'anodisation)
afval van de chemische oppervlaktebehandeling en coating van metalen en andere materialen (bijvoorbeeld galvanische processen, verzinken, beitsen, etsen, fosfaatbehandeling, alkalisch ontvetten, anodisatie)