Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 25 : Technologie de fabrication de MEMS à base de silicium - Méthode de mesure de la résistance à la traction-compression et au cisaillement d'une micro zone de brasure
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 25 : Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of pull-press and shearing strength of micro bonding area