Ce type de lithographie est considéré comme une technique intermédiaire importante entre la technique actuelle des 193 nanomètres, qui sera abandonnée dans un délai de quatre à six ans, et les techniques EUV futures, qui commenceront à être employées après 2010.
Deze soort lithografie wordt als een belangrijke intermediaire technologie beschouwd tussen de huidige 193 nanometertechnologie, die binnen vier tot zes jaar verouderd zal zijn, en de toekomstige EUV-technologieën, die na 2010 hun intrede zullen doen.