Plaats de plaat in de goed verzadigde ontwikkeltank (4.14) en ontwikkel met de ontwikkelvloeistof (5.7) bij ongeveer 20 oC tot ongeveer 1 cm van de bovenrand van de plaat.
Die Platte in die gut gesättigte Entwicklerkammer (4.14) stellen und mit dem Fließmittel (5.7) bei etwa 20 oC bis 1 cm vom oberen Plattenrand entfernt entwickeln.
