2.1.3. In de fosforplatentechnologie (« computed radiography of CR »), wordt de exposie in de plaat uitgedrukt in een fabrikantspecifieke parameter, zoals bijvoorbeeld : Agfa : LgM of scan average level (SAL); Fuji : sensitivity index; Kodak : exposure value; Konica : pixel value.
2.1.3. En ce qui concerne la technologie des plaques de phosphore (« computed radiography ou CR »), l'exposition au niveau de la plaque est exprimée en un paramètre spécifique au fabricant tel que : Agfa : LgM ou scan average level (SAL); Fuji : sensitivity index; Kodak : exposure value; Konica : pixel value.