Traduction de «rf voorspanning voor substraat » (Néerlandais → Français) :

TERMINOLOGIE

RF voorspanning voor substraat
tension de polarisation RF pour substrat

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

- zijn bedrijfsonderdeel signaalversterkers (RF Power) te verkopen, met inbegrip van alle sleutelactiva en sleutelmedewerkers, maar met uitzondering van activa die noodzakelijk zijn voor de zogeheten "front-end"-productie van deze producten, nl. het bedrukken van het substraat van siliciumwafers met de circuits die precies nodig zijn om halfgeleiders te laten functioneren;
- de vendre son activité «puissance radiofréquences», qui comprend tous les actifs importants et le personnel, à l'exception des actifs nécessaires à la fabrication en amont de ces produits, à savoir les opérations d'estampage du substrat des plaquettes de silicium avec la circuiterie précise permettant aux semi-conducteurs de fonctionner;

5. «ion-plating» is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken.
5. le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) par laquelle une source d'ions ou un plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau.

Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet mede begrepen in deze definitie.
Cette définition ne s'applique pas au dépôt par arc cathodique aléatoire avec des substrats non polarisés.

5". ion-plating" is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken.
5. le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) par laquelle une source d'ions ou un plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau.