Vertaling van "electro-chemical machining " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE

electro-chemical machining
usinage électro-chimique

electro-chemical machining | ECM [Abbr.]
usinage électro-chimique | ECM [Abbr.]

electro-chemical machine [ electro-chemical machining system ]
machine à usiner électrolytique [ machine d'usinage par procédé chimique ]

electrochemical machining [ ECM | electro-chemical machining | electrolytic machining | electrochemical milling ]
usinage électrolytique [ usinage électrochimique ]

electro-chemical machine
machine d'usinage par procédé chimique

International Society of Electrochemistry [ ISE | International Committee of Electro-Chemical Thermodynamics and Kinetics ]
Société internationale d'électrochimie [ SIE | Comité international de thermodynamique et de cinétique électrochimique ]

equipment for electro-chemical grid marking of the sheets to be pressed or drawn
électrochimique en grille des tôles destinées à être embouties ou tractionnées

electro-chemical etch
attaque électrochimique

electro-chemical potential
potentiel électro-chimique

chemical mixing machine tender | chemical plant operator | chemical mixer | chemical mixing machine operative
technicien de production en industrie chimique | technicienne de production en industrie chimique | conducteur de broyeur en industrie chimique/conductrice de broyeur en industrie chimique | technicien de production en industrie chimique/technicienne de production en industrie chimique

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

(1) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam, electro-discharge or plasma arc processes of subheading 8486.30 from any other good of subheading 8486.30 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(1) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques, par électro-érosion ou par jet de plasma de la sous-position 8486.30 de tout autre produit de la sous-position 8486.30 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(16) A change to machine-tools for working any material by removal of material, by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.40 from any other good of subheading 8486.40 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(16) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.40 de tout autre produit de la sous-position 8486.40 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(4) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes of subheading 8486.10 from any other good of subheading 8486.10 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(4) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma de la sous-position 8486.10 de tout autre produit de la sous-position 8486.10 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :

(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :