It is developing so-called 'maskless parallel electron beam writing' (in short: 'E-beam') technology that could be used in lithography machines.
Elle mène des recherches dans la technologie dite de «l'écriture par faisceau parallèle d'électrons sans masque» («maskless parallel electron beam writing» ou en abrégé «E-beam») destinée à servir aux machines de lithographie.