Vertaling van "reticle " (Engels → Frans) :

TERMINOLOGIE

reticle for integrated circuits
réticule pour circuits intégrés

reticle | reticule | reticule cross
fils croisés du réticule | réticule

amber reticle
réticule ambre

reticle
réticule

reticle | graticule
réticule

hair cross | sight reticle | sight reticule
réticule de visée

crosshairs | reticle
réticule

collimator reticle
réticule du collimateur

alphanumeric reticle generator
générateur de signaux alphanumériques de réticule

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

ML1.d. does not apply to optical weapon sights without electronic image processing, with a magnification of 9 times or less, provided they are not specially designed or modified for military use, or incorporate any reticles specially designed for military use.
Le point ML1.d ne vise pas les dispositifs de visée optiques dépourvus de traitement électronique de l’image, avec un pouvoir d’agrandissement de 9 fois ou moins, à condition qu’ils ne soient pas spécialement conçus ou modifiés pour l’usage militaire, ou comportent des réticules spécialement conçus pour l’usage militaire.

ML1.d. does not apply to optical weapon-sights without electronic image processing, with a magnification of 9 times or less, provided they are not specially designed or modified for military use, or incorporate any reticles specially designed for military use.
Le point ML1.d ne vise pas les dispositifs de visée optiques dépourvus de traitement électronique de l'image, avec un pouvoir d'agrandissement de 9 fois ou moins, à condition qu'ils ne soient pas spécialement conçus ou modifiés pour l'usage militaire, ou comportent des réticules spécialement conçus pour l'usage militaire.

NoteML1.d. does not apply to optical weapon-sights without electronic image processing, with a magnification of 9 times or less, provided they are not specially designed or modified for military use, or incorporate any reticles specially designed for military use.
Note:Le point ML1.d ne vise pas les dispositifs de visée optiques dépourvus de traitement électronique de l'image, avec un pouvoir d'agrandissement de 9 fois ou moins, à condition qu'ils ne soient pas spécialement conçus ou modifiés pour l'usage militaire, ou comportent des réticules spécialement conçus pour l'usage militaire.

NoteML1.d. does not apply to optical weapon sights without electronic image processing, with a magnification of 9 times or less, provided they are not specially designed or modified for military use, or incorporate any reticles specially designed for military use.
Note:Le point ML1.d ne vise pas les dispositifs de visée optiques dépourvus de traitement électronique de l'image, avec un pouvoir d'agrandissement de 9 fois ou moins, à condition qu'ils ne soient pas spécialement conçus ou modifiés pour l'usage militaire, ou comportent des réticules spécialement conçus pour l'usage militaire.

– marking-out instruments which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | | |
– Instruments de traçage utilisés comme masqueurs conçus pour la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | | |

– cameras of a kind used for preparing printing plates or cylinders which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | Manufacture: from materials of any heading, except that of the product,in which the value of all the materials used does not exceed 40 % of the ex-works price of the product, andin which the value of all the non-originating materials used does not exceed the value of all the originating materials used | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 30 % of the ex-works price of the product |
– Appareils photographiques des types utilisés pour la préparation des clichés ou cylindres d’impression qui sont des masqueurs conçus pour la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | Fabrication: à partir de matières de toute position, à l’exclusion des matières de la même position que le produit,dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit, etdans laquelle la valeur de toutes les matières non originaires utilisées ne doit pas excéder la valeur de toutes les matières originaires utilisées | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 30 % du prix départ usine du produit |

g. Masks and reticles designed for integrated circuits specified in 3A001;
g. masques ou réticules conçus pour circuits intégrés visés au paragraphe 3A001;