Traduction de «Photoresist » (Anglais → Néerlandais) :

TERMINOLOGIE

photoresistance
fotoweerstand | lumistor

photocell sensitivity | photoresistive-cell sensitivity | photoresistor sensitivity
gevoeligheid van een fotocel

light-sensitive resin | light-sensitive resist | optical resist | photoresist | PR [Abbr.]
fotolak

TRADUCTIONS EN CONTEXTE

photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes;
lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procedés,

photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes.
lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procedés.

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,
(a) lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés,

- photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,
- lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés,

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ., provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC andwhere the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.
(a) lichtgevoelige of antireflecterende coatings voor fotolithografische procédés tot ., mits ze worden gebruikt in gecontroleerde gesloten systemen overeenkomstig richtlijn van de Commissie 2001/59/EG en mits de concentratie van perfluoroctaansulfonaten die vrijkomen in het milieu en op de werkplek minder bedraagt dan 1µg per kg van de in het systeem gebruikte perfluoroctaansulfonaten.

With regard to the derogations contained in the proposal, I agree that the use of PFOS and related substances should continue to be permitted in photoresists and photographic materials, when plating with hexavalent chromium and other metals, and in hydraulic fluids, as the risks connected with these uses are acceptable since there are no equivalent alternatives and it is not certain that the toxicological profiles of the alternatives are any better.
Ten aanzien van de uitzonderingsregelingen die in het voorstel zijn opgenomen, ben ik het ermee eens dat het gebruik van PFOS en daarmee verwante stoffen blijft toegestaan in lichtgevoelige coatings en fotografische materialen, bij verchroming met Cr (VI) en galvanisatie met andere metalen, en in hydraulische vloeistoffen. De risico's die aan deze toepassingen zijn verbonden, zijn namelijk aanvaardbaar en er zijn geen gelijkwaardige alternatieven. Ook is het niet zeker dat het toxicologisch profiel van eventuele alternatieven gunstiger is.

– marking-out instruments which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | | |
– aftekeninstrumenten zijnde patroongeneratoren van de soort gebruikt voor het vervaardigen van maskers of systeemrasters "reticles" op substraten voorzien van een lichtgevoelige laag; delen en toebehoren daarvan | | |

– cameras of a kind used for preparing printing plates or cylinders which are pattern generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates; parts and accessories thereof | Manufacture: from materials of any heading, except that of the product,in which the value of all the materials used does not exceed 40 % of the ex-works price of the product, andin which the value of all the non-originating materials used does not exceed the value of all the originating materials used | Manufacture in which the value of all the materials used does not exceed 30 % of the ex-works price of the product |
– fototoestellen van de soort gebruikt voor het vervaardigen van clichés of van drukcilinders, zijnde patroongeneratoren van de soort gebruikt voor het vervaardigen van maskers of systeemmaskers "reticles" op substraten voorzien van een lichtgevoelige laag; delen en toebehoren daarvan | Vervaardiging: uit materialen van om het even welke post, met uitzondering van materialen van dezelfde post als het product,waarbij de waarde van alle gebruikte materialen niet meer bedraagt dan 40 % van de prijs af fabriek van het product, enwaarbij de waarde van alle gebruikte niet van oorsprong zijnde materialen niet meer bedraagt dan de waarde van de gebruikte en van oorsprong zijnde materialen | Vervaardiging waarbij de waarde van alle gebruikte materialen niet meer bedraagt dan 30 % van de prijs af fabriek van het product |

Lithography concerns that part of chip production in which ultrafine electronic elements are created through the exposure of photoresistant materials to light.
Lithografie betreft dat gedeelte van de chipsproductie waarbij ultrafijne elektronische elementen worden gecreëerd door de belichting van lichtstraalgevoelige materialen.