Preparation of the basic plates. Immerse the silica gel plates (4.4) completely in the 0,2 N ethanolic potassium hydroxide solution (4.5) for 10 seconds, then allow to dry in a fume cupboard for two hours and finally place in a stove at 100 oC for one hour.
Préparation des plaques basiques: immerger les plaques au gel de silice (4.4), complètement, dans la solution éthanolique 0,2 N d'hydroxyde de potassium (4.5) durant 10 secondes, laisser les ensuite enfermées sous hotte pendant deux heures et mettre finalement à l'étuve à 100o C pendant une heure.